アメリカ中西部における Intel の野心的な半導体製造計画は、同社が現在の市場状況に合わせて戦略を再調整する中で、大幅なスケジュール調整に直面しています。このテクノロジー大手は、かつて「シリコンハートランド」と呼ばれた建設スケジュールに大幅な修正を発表し、半導体業界全体の課題と Intel 自身の財務的考慮を反映させています。
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| 建設中の最新の Intel 施設。アメリカ中西部での半導体製造に関する同社の計画を象徴しています |
オハイオ製造拠点の3度目の大幅な遅延
Intel はオハイオワン半導体製造施設について、完成日を2030年に延期するという新たな大幅な遅延を発表しました。これは当初の2025年目標から3回目の大幅な延期となります。修正されたスケジュールによると、第一段階（Mod 1）は2030年に完成し、チップ生産は2030年から2031年の間に開始される予定です。第二段階（Mod 2）は現在2031年に完成予定で、操業は2032年に開始されます。同社は顧客需要が増加した場合に加速できる柔軟性を維持しながら、現在の市場状況に合わせて資本投資をより適切に調整するため、建設を意図的に遅らせています。
Ohio 製造拠点のタイムライン
- 当初の完成目標：2025年
- 最初の修正：2027年〜2028年
- 現在のタイムライン：
- Mod 1 完成：2030年
- Mod 1 生産開始：2030年〜2031年
- Mod 2 完成：2031年
- Mod 2 生産開始：2032年
市場の不確実性の中での財務的慎重さ
オハイオ施設の遅延決定は、Intel が収益性回復に苦戦する中での現在の財務戦略を反映しています。半導体製造における最も重要な支出である生産設備への主要投資を延期することで、Intel は2025年から2028年の期間の資本支出を大幅に削減することができます。Intel のエグゼクティブバイスプレジデント兼チーフグローバルオペレーションオフィサーである Naga Chandrasekaran 氏は従業員へのメッセージで、修正されたスケジュールにより、プロジェクトが財政的に責任ある方法で進行し、オハイオワンの将来の成功を確実にすることを強調しました。
先進技術の実装
新しいスケジュールを考慮すると、オハイオ施設は2026年から2027年に導入予定の Intel の14Aおよび14A-Eノードの後に開発されるプロセス技術を利用することになります。これらの先進製造プロセスは、ASML の最先端リソグラフィツール（Twinscan EXE:5200や、1台約3億5000万ドルのさらに高度なHigh-NA EUVシステムなど）に依存する可能性が高いです。この技術的位置づけは、オハイオ拠点が最終的に稼働する際には、利用可能な最も先進的なチップ製造能力を備えることを示唆しています。
Ohio One プロジェクト詳細
- キャンパス規模：1,000エーカー（4平方キロメートル）
- 計画生産能力：最大8つの半導体製造工場
- 推定総投資額：1,000億米ドル
- 初期投資額：280億米ドル
- 予定されるプロセス技術：14Aおよび14A-Eノード以降
- 主要設備： ASML 高NA EUVリソグラフィーツール（1台3億5,000万米ドル）
スケジュール変更にもかかわらず進む建設
修正されたスケジュールにもかかわらず、オハイオ拠点の建設は2022年の起工式以来、大きな進展を見せています。プロジェクトは最近、地下基礎の完成というマイルストーンに達し、地上建設が開始できるようになりました。2月初旬までに、空気分離装置を含む4つの特大ユニットを含む36の超大型積載物が現場に到着しました。作業員は640万時間以上の労働時間を投入し、広範な地下配管を設置し、20万立方ヤード以上のコンクリートを注入し、サブユーティリティトレンチを建設しました。また、1,000エーカー（4平方キロメートル）の広大なキャンパスにオフィス構造物も形成されつつあります。
建設の進捗状況
- 建設開始：2022年
- 投入された労働時間：640万時間以上
- 注入されたコンクリート：20万立方ヤード以上
- 受け取った超大型貨物：36件（2月4日時点）
- 現在の状況：地下基礎工事が完了し、地上部分の建設が進行中
長期的なビジョンと労働力開発
Intel はオハイオワンキャンパスに対する長期的なビジョンを維持しており、最終的に最大8つの半導体製造工場とサポート業務、業界パートナーを収容できるよう設計されています。同社は以前、サイトの完全な開発には約1,000億ドルの投資が必要と見積もっており、第一段階は当初約280億ドルの予算でした。興味深いことに、建設の遅れにもかかわらず、Intel はすでにオハイオ施設の従業員の採用と訓練を開始しています。これらの労働者は現在、アリゾナ州、ニューメキシコ州、オレゴン州の既存の Intel サイトで訓練を受けており、将来の地元施設のオープンに備えています。
市場への影響
Intel のオハイオ施設の繰り返される遅延は、同社の製造能力に対する将来の需要に対する慎重な見通しを示している可能性があります。これは Intel と半導体業界全体にとって厳しい時期に起きており、同社は過去1年間で財務的損失、人員削減、リーダーシップの変更に対応してきました。Intel はまた、特定のAIチッププロジェクトの中止を含む製品ロードマップの簡素化という戦略的決定も行っています。しかし、より遅いペースでサイトの開発を維持することで、Intel は市場状況が改善した場合に建設を加速する能力を維持しながら、当面の財務健全性に焦点を当てています。